2010-07-03 今日のTwitter 材料や製造技術の研究開発者は,ルネサスに移る RT @k_2106: "コンカレントR&D" 「「何でもできると思う驕り(おごり)があった」,NECが中央研究所の方針を発表(TechOn)」bit.ly/bdZ0K5 # その流れで:「米国国立標準技術研究所(NIST)のベンチマークテストにおいて、NECの顔認証技術が第1位の評価を獲得」 www.nec.co.jp/press/ja/1006/3002.html #Automatically shipped by LoudTwitter